제목 : 특허권 취득
* 주요 내용
1.특허명칭 :
웨이퍼 고속 촬영 시스템(Wafer High-Speed Imaging System)
2. 특허 주요내용:
본 발명의 실시예는 웨이퍼 고속 촬영 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 실시예는 웨이퍼 고속 촬영 시스템에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 웨이퍼가 기울어진 상태로 위치된다고 해도 위치 차이(기울기)를 간단하고 쉽게 측정 및 연산하고, 웨이퍼의 기울어진 정도에 따라 초점 거리를 변경하며 촬영함으로써, 고품질의 웨이퍼 영상을 획득할 수 있는 웨이퍼 고속 촬영 시스템을 제공하는데 있다.
이를 위해 본 발명은 스테이지에 위치된 웨이퍼의 수평 위치별 포커스 값을 측정하는 포커스 측정부; 포커스 측정부로부터 입력된 포커스 값을 이용하여 웨이퍼의 평면 방정식을 계산하고, 평면 방정식으로부터 웨이퍼의 수평 위치별 포커스 보정값을 계산하는 제어부; 제어부의 제어 신호에 의해 웨이퍼 상에서 수평 위치(X,Y)를 따라 이동하는 수평 위치 이동부; 제어부의 제어 신호에 의해 웨이퍼 상에서 수직 위치(Z)를 따라 이동하는 수직 위치 이동부; 및 제어부의 제어 신호에 의해 웨이퍼 상에서 수평 위치로 이동하면서 스캔하여 촬영하는 촬영부를 포함하
되, 제어부는 촬영부가 웨이퍼의 수평 위치별 포커스 보정값에 따라 웨이퍼를 촬영하도록 수직 위치 이동부의 수직 위치를 제어하는, 웨이퍼 고속 촬영 시스템을 개시한다.
3. 특허권자 : 주식회사 하이비젼시스템
4. 특허취득일자 : 2024-06-04
5. 특허등록국가 : 대한민국
6. 출원번호 : 10-2021-0083205
7. 특허활용계획 : 자사제품 적용
* 기타 사항 :
- 상기 특허취득일자 및 결정(확인)일자는 특허등록료 납부일자입니다.
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